光化學高壓反應釜

Name: 光化學高壓反應釜
Price: 面議 CNY
Availability: InStock

描述：光化學高壓反應釜是由：特制光源，不銹鋼釜體以及控制系統組成。用于新能源，環境、新藥研發領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。

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產地類別	國產

巖征儀器 光化學高壓反應釜是由：特制光源，不銹鋼釜體以及控制系統組成。用于新能源，環境、新藥研發領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。

巖征儀器 光化學高壓反應釜技術特點：

1、光源可按照客戶要求選擇，采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器，光源光電參數及光化學反應的溫度，攪拌等參數實時數字顯示在屏幕上，國內*。

2、光源與釜體連接部分采用技術保證耐壓氣密性，國內*。

3、更專業的光化學釜體生產工藝：釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門，溫度測溫探桿，耐壓光源插入口等，在保證您的生產安全前提下更方便您的操作。

4、采用浸入式光源設計，物料與光源充分接觸，光化學反應釜配備大功率攪拌電機帶動錨式攪拌槳，讓物料能均勻吸收光子能量。

5、嵌入式一體加熱模塊結構，加熱更均勻。釜體、加熱器可*分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作，提高工作效率。

6、除了提供普通廠家提供的SU316L材質的釜體外，還提供不銹鋼內襯teflon，鈦材，鎳材，哈氏合金等非標材質釜體的定做。

巖征儀器配置表：

型號	YZ-GHX-HP系列
光源類型	低壓汞燈,高壓汞燈,氙氣燈,鈉燈,led燈,準分子燈
光源冷卻形式	強制水冷，采用強制導流夾套式光源冷阱
容積	5-500L
釜體材質	不銹鋼304,316L,TA2,蒙乃爾合金，哈氏合金
設計參數	設計壓力1mpa,設計溫度：250℃
工作參數	工作壓力0.5mpa，工作溫度：220℃
攪拌設計	采用磁力耦合機械式攪拌，零泄漏，攪拌轉速：0-750轉/分
釜體開口	釜蓋開有進氣口，出氣口，測溫口，光源插入口，特殊要求非標設計
加熱方式	電加熱，可選導熱油，蒸汽，及紅外加熱
控制系統	一體式控制機柜，上部控制光源，下部分控制反應釜溫度，攪拌
光源冷卻設備	大功率激光冷水機，給光源及冷凝回流提供降溫保證

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